本文標題：" 材料學小常識-上海光學精密檢測顯微鏡廠商"

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材料學小常識-上海光學精密檢測顯微鏡廠商

目前不論半導體工業(yè)或太陽能光電產業(yè)，因產量需求的增加與原物料矽材的不足，

故生產產品的價格皆明顯偏高。且于制造生產矽晶的過程中，皆會有大量二氧化矽坩堝碎片的生

成，由于此種坩堝碎片的純度相當?shù)母撸裟苡枰猿浞只厥铡⒓兓驮偕蔀楦呒兌戎Y晶

石英粉，則其在工業(yè)上將有許多可應用之用途。

針對熔煉過后之二氧化矽坩堝廢料，進行再生純化制程的相關研究，并期望能達到廢棄坩堝再生利用之目標

實驗之初，先將坩堝碎片徹底清洗及陰干后，經粉碎機加以反覆粉碎兩次，然后進行強

力磁選以去除因粉碎時鋼刀鐵屑的殘留，再加入鹽酸進行酸洗與過水洗凈的處理，最后加以

烘干即成為實驗之二氧化矽原始物料。

首先將二氧化矽粉末與礦化劑(氫氧化鈉溶液)以1：4的容積比放入反應釜中再放置于恒溫烘箱，

并升溫至操作溫度后持溫時間24小時，使二

氧化矽粉末能充分溶解與析出再結晶，然后關烘箱電源、于烘箱中行自然冷卻至室溫

經水熱制程反應后之石英結晶粉末會有夾雜鈉污染現(xiàn)象的存在，故需對鈉元素的去除

做處理，因而利用高溫升降氣氛爐與石英管爐來進行后續(xù)純化制程的研究。

高溫升降氣氛爐之反應流程圖，借升溫至1500℃以高溫燃燒方式來達到除鈉純化之目的，全

程通入氬氣作為保護氣氛。于圖(3)所示為石英管爐之反應流程圖，將水熱反應后之石英結

晶粉末置于石英管爐中，先升溫至1010℃溫度、持溫4 小時并通入熱鹽酸反應，然后升溫至

1030℃使用真空幫浦抽真空1 小時來達到氣化純化的效果

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